紫外臭氧清洗机 - 深圳市科晶智达科技有限公司

PCE-22-LD 紫外臭氧清洗机

应用范围：PCE-22-LD是一款可加热的紫外臭氧清洗机，其加热温度可达150℃。此款设备可用于清洗各种基片，为制作高质量的薄膜打好基础。特别适合移除光刻胶，改善表面润湿性，清洗SEM＆TEM，紫外对聚合物改性等。紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别清洗手段，特别适合清除一些有机化合物，紫外灯主要发出两种波长的光：185nm和254nm，其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭气，254nm可以破坏化合物中的键（特别是碳碳键）。所以这两种波长的光组合可有效的清除有机化合物。

产品型号：PCE-22-LD

设备尺寸：约L550*W520*H335mm

重量：约30kg

上架时间：2024-04-16

版本号：V1.0

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PCE-22-LD是一款可加热的紫外臭氧清洗机，其加热温度可达150℃。此款设备可用于清洗各种基片，为制作高质量的薄膜打好基础。特别适合移除光刻胶，改善表面润湿性，清洗SEM＆TEM，紫外对聚合物改性等。紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别清洗手段，特别适合清除一些有机化合物，紫外灯主要发出两种波长的光：185nm和254nm，其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭气，254nm可以破坏化合物中的键（特别是碳碳键）。所以这两种波长的光组合可有效的清除有机化合物。

功能特点

仅室内使用；海拔高度5500英尺以内；
温度范围：5-40℃；
最大相对湿度80%，最高30.5℃，40℃线性降至50%相对湿度；
主电源波动不超过额定电压的10%；
污染等级2；臭氧水平（环境）测量＜45ppb；
可去除分子级别的污染物；
可清洗MEMS器件；
可清洗各种基片，如si,Ge,GaAs和各种氧化物单晶基片。

技术参数
电源	单相AC220V±10%，频率：50Hz/60Hz，功率约1KW
工作环境	室内使用，温度：5～40℃，最大相对湿度80%，海拔5500英尺以内
腔体&样品台	不锈钢壳体抽屉式样品台，以便放样取样基片台尺寸：310mm*320mm 臭氧通风装置安装在腔体上样品台与紫外灯的距离：20mm-40mm范围内可调样品台可以加热，最高温度可达150℃ 可设置8段升降温程序，控温精度为±1℃ 照射设定时间：1min-9999min
触摸屏＆加热	4.5英寸触摸屏控制加热和清洗功能点击触摸屏上的“温控程序”即可进入程序设置界面，内置温控仪表采用PID方式调节，可设置30段升温程序，设备只显示8段升温程序，可根据实际要求进行添加设备加热前需进行预热处理
排气口	直径为80mm的排气口安装在仪器后端将铝波纹管与排气口连接，将臭氧排出到实验室外橡胶管长度8米
紫外灯	UV灯管：功率：210W 发出光的波长：254nm和185nm 照射区域：200*200mm 可以清洁直径最大为12英寸×35mm的晶体晶片
外形尺寸	约L550W520H335mm
重量	约30kg

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实验设备

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