实验设备

● 可对粉体材料进行表面包覆：采用磁控溅射，溅射时粉体材料在振动样品台上翻滚，达到粉体表面均匀包覆
● 设备小巧可在手套箱内使用，可处理样敏感性材料

220 VAC 50/60Hz

● 1600 VDC /250 W
● 最大电流150 mA .

● 2英寸角度可调节溅射头，带有水冷夹层
● 一个手动操作挡板，用于保护靶材
● 溅射头与样品台距离可调节，调节范围为60-100mm
● 设备中配有一循环水冷机（流量16L/min）,用于冷却溅射头

● 振动样品台安装在真空腔体底部
● 样品台振动频率可调节：6-33Hz
● 样品台直径为50mm,粉末放置于样品台上，溅射时粉末振动翻转，对粉体表面进行包覆
● 建议样品量: < 500 mg
● 建议颗粒尺寸: 1 ~ 1000um

● 一个KF25真空接口
● 此系统需要Ar气瓶（上面安装减压阀）（设备中不包含）
● 真空度：
①1.0E-2 Torr（采用机械泵），可溅射Au, Ag, Pt, Cu, Mo等靶
② 1.0E-5 Torr（采用分子泵），可溅射Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn等易氧化金属靶
● 最大真空度可达到< 4.0E-6 Torr（分子泵系统抽时间12小时，腔体进行烘烤）

● 设备中包含一2英寸Cu靶，靶材厚度2.5mm
● 此设备可溅射 Ag, Al, Cr, Ni, Pt, Ti, Sn, Li, Mg,等各种金属靶材
● 可选购射频等离子磁控溅射仪，用于溅射非导电靶材和碳靶

警告：
●溅射头与高压电源相连接，操作时必须佩带防护手套
●溅射前必须确保靶材，溅射头，基片和样品台清洁，需要用砂纸和乙醇来清洗，Al或是Ni靶每次使用时都必须清洗和理
●注意：粉末样品必须干燥和分散

CE认证